Espectrômetro de emissão óptica SPECTRO ARCOS

para a indústria aeroespacialde monitoramentopara análise de gases

A nova interface dual side-on (DSOI) acrescenta sensibilidade e elimina problemas de contaminação/matrix Um instrumento em vez de dois: Apenas um instrumento de plasma MultiView no mercado - observação de plasma axial verdadeiro E radial verdadeiro (simples ou duplo) em um instrumento Sistema Óptico ORCA: Captura simultânea do espectro na faixa de comprimento de onda de 130-770 nm com até 5x mais sensibilidade que os sistemas baseados em Echelle - proporciona o melhor desempenho da classe na faixa UV/VUV O espectrômetro de emissão óptica por plasma acoplado indutivamente SPECTRO ARCOS (ICP-OES) se destaca em aplicações industriais e acadêmicas para a análise elementar mais avançada de metais, produtos químicos, petroquímicos e outros materiais. O mecanismo MultiView sem periscópio permite ao operador literalmente "transformar" um instrumento de visão radial num dispositivo de visão axial, ou vice-versa, em 90 segundos ou menos. O MultiView agora inclui dupla observação de plasma lateral. As duas interfaces ópticas adicionam sensibilidade e eliminam problemas de contaminação/matrix Os detectores de radiação de linha, baseados na tecnologia de semicondutores complementares metal-oxido-semicondutores (CMOS), eliminam a floração, lêem os sinais baixos dos elementos vestigiais mesmo nas proximidades de linhas matriciais intensas, oferecem uma gama dinâmica elevada e eliminam o arrefecimento no chip O design do SPECTRO ARCOS garante custos operacionais excepcionalmente baixos durante uma longa e confiável vida útil. Além disso, ele possui um chassi moderno e ergonômico com características comprovadas, como a tecnologia de purificação de gás selada por UV-PLUS sem necessidade de uso intensivo, sistema de refrigeração de ar patenteado, sistema de válvula inteligente opcional e câmera de vídeo portátil para monitoramento remoto. O novo SPECTRO ARCOS está disponível em seis versões