Poliamida em placas Semitron® ESD 520HR PAI
em barrasaeronáutica

Poliamida em placas - Semitron® ESD 520HR PAI - Mitsubishi Chemical Advanced Materials - em barras / aeronáutica
Poliamida em placas - Semitron® ESD 520HR PAI - Mitsubishi Chemical Advanced Materials - em barras / aeronáutica
Poliamida em placas - Semitron® ESD 520HR PAI - Mitsubishi Chemical Advanced Materials - em barras / aeronáutica - imagem - 2
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Características

Forma
em barras, em placas
Outras características
aeronáutica
Temperatura de serviço

MÍN: 230 °C
(446 °F)

MÁX: 425 °C
(797 °F)

Descrição

O Semitron® PAI é uma carteira de materiais de poliamida imida desenvolvidos para aplicações extremamente exigentes no fabrico de semicondutores e dispositivos electrónicos, tais como gamas de alta tensão, temperaturas elevadas e aplicações em câmaras de vácuo que requerem níveis elevados de pureza iónica. Cada produto oferece as excepcionais propriedades mecânicas e térmicas da PAI, com formulações especiais para satisfazer os rigorosos requisitos de pureza e tensão do fabrico de semicondutores. Desde a resistência à rutura dieléctrica e a tensões que variam entre 100 V e 1000 V, até às baixas taxas de desgaseificação e erosão em câmaras de plasma, o PAI Semitron® dura mais tempo e tem um desempenho superior ao de outros materiais utilizados na indústria de semicondutores e eletrónica. O Semitron® ESD 520HR é um material PAI de dissipação eletrostática que possui a capacidade única de resistir à rutura dieléctrica a altas tensões. Como resultado, o Semitron® ESD 520HR é o único tipo de Semitron® que mantém o seu desempenho em toda a gama de tensões de 100V a 1000V, oferecendo também o desempenho mecânico necessário para se destacar em aplicações exigentes. Esta caraterística, combinada com a sua elevada força e resistência ao calor, faz do Semitron® ESD 520HR uma solução ideal para equipamento de teste e aplicações de manuseamento de dispositivos na indústria de semicondutores e eletrónica. As formas Semitron® MPR 1000 possuem uma excelente resistência ao calor e baixas taxas de desgaseificação e erosão em câmaras de plasma. Este material de elevada pureza com baixo teor iónico é frequentemente escolhido para aplicações em câmaras de vácuo nas subsegmentações de gravação, CVD e implante iónico na indústria de semicondutores e eletrónica.

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