このガスタイトレトルト炉は、温度に応じて直接または間接的に加熱する機能を備えています。定義された保護雰囲気または僅かな過圧の反応ガス雰囲気を必要とする様々な熱処理工程に最適です。このコンパクトな機種は、最高 600 ℃までの真空下での熱処理にも対応可能です。炉室はガス密閉のレトルトで構成され、特殊シールを保護するために扉周辺を水冷しています。
対応する安全技術により、レトルト炉は水素等の反応ガス雰囲気下での用途にも適しています。またIDBパッケージとの組み合わせにより、不活性脱バインダーや熱分解プロセスにも対応します。
温度範囲により、さまざまなモデルが用意されています。
- レトルト内に配置された発熱体
- 1.4571 (X6CrNiMoTi 17-12-2)製レトルト
- 空気循環ファンとバッフルによるガス流の誘導
- ミネラルウール製断熱材
- レトルト内温度測定による炉内温度制御
- レトルト周囲に発熱体を設置し、外部加熱
- 1.4828(X15CrNiSi20-12)製レトルト
- 耐火断熱材と微多孔質パネルの多層構造材
- レトルト外での測定による炉内温度制御
- 1.4841(X15CrNiSi25-21)製レトルト
- ガス循環、バッフルなし
- 溶接されたサポートブラケット
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