鉄基材上のめっき金属の電気めっきと亜鉛めっきの正確な測定
高度な金属皮膜測定
CMl243®はメタルフィニッシャーにとって不可欠なツールです。フレキシブルで使いやすい
位相感応渦電流技術を採用したECP-mプローブを搭載しています。CMI243®と
CMI243®では、ECP-mプローブを使用することで、鉄基材上の金属皮膜を正確に測定することができます。このゲージはファスナーや輸送部品に最適で、ユーザーフレンドリーなコントロールと蛍光X線分析(XRF)装置に匹敵する性能を備えています。さらに、CMI243®に磁気誘導プローブを追加することで、磁性基材上の塗料やその他のコーティングを測定することができます。
位相感応渦電流テクノロジー
従来の渦電流ゲージや磁気誘導式ゲージよりも信頼性が高く、特に小型部品や複雑な形状の部品に最適です。精度は±1%以内(標準品を基準)、精度は0.3%以内。
進化したECP-mプローブ
ECP-mプローブは、難しい金属皮膜のアプリケーションのために特別に設計されました。このプローブは、鉄基板上の亜鉛、ニッケル、銅、クロム、カドミウムなどの金属皮膜を測定できます。その先端部は、小さな部品、異形部品、粗い部品の測定を容易にします。
パッケージの構成
| ガイド付きECP-mプローブ
| 亜鉛校正用標準試料
| オプション:SMP-1(磁気プローブ)は別途購入可能。
| 精度:標準物質に対して±1%。
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