研究所用炉 BMICRO

クエンチング ガスろう付けチャンバー

BMICROシリーズは、小規模な負荷の処理、または小規模な統合生産、研究開発センター、大学...向けの経済的な選択肢です。 BMICRO、研究室および工業用コンパクト真空炉 BMICROは小規模生産、研究所、研究開発センター、大学等、真空熱処理を含む全製造工程の管理を希望する全ての企業向けに設計されたコンパクトな真空炉です。このBMICRO小型真空炉は、その低コストとメンテナンス費用の削減により、外注に代わる経済的な選択肢となります。 この工業用小型炉は、ガス焼入れ、溶体化熱処理、ロウ付け、焼結、応力除去、アニール、およびオプションで提供される ALLCARB® 低圧浸炭など、高温での主な真空熱処理に特に適しています。これらの真空炉は対流を装備して加熱時間を短縮し、真空ガス焼入れを補完する真空焼戻しサイクルのような均質な低温熱処理を実施することも可能です。 B8_Tはコンパクトな装入物に、VSE8_Tは高重量装入物の処理に適しています。 追加オプション 焼成モード 真空放射（標準） ガス対流（200～800℃の範囲で±5） ポンプユニット - 二段式または一次ポンプ＋ルーツ（標準） ドライ真空ポンプ 拡散ポンプ ターボ分子ポンプ 拡散ポンプ用バッフル コールドトラップ