La nuova doppia interfaccia laterale (DSOI) aggiunge sensibilità ed elimina i problemi di compatibilità tra contaminazione e matrice
Uno strumento invece di due: L'unico strumento al plasma MultiView sul mercato - vera osservazione assiale E vera osservazione radiale (singola o doppia) del plasma in un solo strumento
Sistema ottico ORCA: Cattura simultanea dello spettro nell'intervallo di lunghezze d'onda 130-770 nm con una sensibilità fino a 5 volte superiore rispetto ai sistemi basati su Echelle - offre le migliori prestazioni della categoria nell'intervallo UV/VUV
Lo spettrometro a emissione ottica al plasma accoppiato induttivamente (ICP-OES) SPECTRO ARCOS eccelle nelle applicazioni industriali e accademiche per l'analisi elementare più avanzata di metalli, prodotti chimici, petrolchimici e altri materiali.
Il meccanismo MultiView, privo di periscopio, permette all'operatore di "trasformare" letteralmente uno strumento a visione radiale in un dispositivo a visione assiale, o viceversa, in 90 secondi o meno. MultiView ora include una doppia osservazione laterale del plasma. Le due interfacce ottiche aggiungono sensibilità ed eliminano i problemi di compatibilità tra contaminazione e matrice
I rivelatori Line-array, basati sulla tecnologia CMOS (complementary metal-oxide-semiconductor), eliminano il blooming, leggono i segnali bassi degli elementi in traccia anche in prossimità delle linee intense della matrice, offrono una gamma dinamica elevata ed eliminano il raffreddamento on-chip
Il design di SPECTRO ARCOS assicura costi operativi eccezionalmente bassi per una vita di servizio lunga e affidabile. E racchiude un telaio moderno ed ergonomico con caratteristiche collaudate come la tecnologia di purificazione dei gas sigillati UV-PLUS no-purge, il raffreddamento ad aria proprietario, il sistema di valvole intelligenti opzionale e la videocamera portatile per il monitoraggio remoto.
Il nuovo SPECTRO ARCOS è disponibile in sei versioni
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